化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)

更新時(shí)間：2024-11-28

產(chǎn)品型號(hào)：CP-6

廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商

生產(chǎn)地址：美國(guó)

產(chǎn)品報(bào)價(jià)：

產(chǎn)品特點(diǎn)：RTEC化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)：先進(jìn)的CMP測(cè)試儀CP-6允許以*的方式研究和表征CMP工藝。除了拋光晶圓和基板外，測(cè)試儀還配有在線表面輪廓儀。這種組合提供了有關(guān)表面，摩擦，磨損等變化的原因和方式的信息。測(cè)試儀還可以測(cè)量幾個(gè)內(nèi)聯(lián)參數(shù)，如摩擦力，表面粗糙度，磨損量等，以便詳細(xì)了解過程。

產(chǎn)品詳情

　　概述：

　　RTEC化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)CP-6采用專業(yè)的方式研究和表征CMP工藝。除了拋光晶圓和基板外，測(cè)試儀還配有在線表面輪廓儀。這種組合提供了有關(guān)表面、摩擦、磨損等變化的原因和方式的信息。測(cè)試儀還可以測(cè)量幾個(gè)內(nèi)聯(lián)參數(shù)，如摩擦力、表面粗糙度、磨損量等，以便詳細(xì)了解過程。

化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)

　　特點(diǎn)：

　　1.集成的共聚焦3D顯微鏡，可以用nm分辨率表征拋光墊表面；

　　2.內(nèi)聯(lián)摩擦、聲發(fā)射研究拋光過程；

　　3.內(nèi)聯(lián)溫度傳感器；

　　4.可安裝多種晶圓尺寸；

　　5.可控制的下壓力和速度。

　　標(biāo)準(zhǔn)配置有X，Y平臺(tái)，可在拋光和成像位置之間移動(dòng)壓板。此外，XY平臺(tái)有助于在拋光過程中振蕩晶圓。使用帶有XY驅(qū)動(dòng)器的壓板允許多軸驅(qū)動(dòng)組合來創(chuàng)建自定義運(yùn)動(dòng)，以模擬接近現(xiàn)實(shí)生產(chǎn)環(huán)境的測(cè)試條件。

　　內(nèi)聯(lián)傳感器：

　　1.扭矩 - 高分辨率內(nèi)聯(lián)扭矩傳感器可實(shí)現(xiàn)端點(diǎn)定位，并實(shí)時(shí)表征表面；

　　2.聲學(xué) - 聲音信號(hào)，允許定性終點(diǎn)或幫助檢測(cè)拋光過程中的碎片、缺陷；

　　3.溫度 - 焊盤和靠近晶圓拋光表面的區(qū)域的在線溫度監(jiān)控有助于研究去除機(jī)制。

　　可編程負(fù)載、速度：

　　為了優(yōu)化過程，CP-6允許使用基于配方的軟件控制和改變力、速度、流速。

　　易于使用：

　　摩擦測(cè)量?jī)x配有快換載體，可輕松安裝晶圓和焊盤。該軟件帶有預(yù)定義的測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)配方，或者可以輕松創(chuàng)建新的自定義配方。

　　集成在線3D輪廓儀：

化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)

　　Rtec化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)配有內(nèi)聯(lián)集成的3D輪廓儀。經(jīng)過優(yōu)化，可以表征具有nm分辨率的拋光墊表面。探測(cè)器配有共焦模式+干涉儀模式+暗場(chǎng)和明場(chǎng)模式。這允許以nm分辨率研究表面變化與時(shí)間的關(guān)系。該測(cè)試儀允許在大表面積上自縫合，以進(jìn)行體積磨損，粗糙度計(jì)算。

化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)